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フリーラジカル過剰産生状態における分子状水素の予防・治療的応用に関するレビュー

Preventive and therapeutic application of molecular hydrogen in situations with excessive production of free radicals.

レビュー 複合経路 評価対象外

要約

酸素フリーラジカルの過剰産生は多くの病態の共通基盤とされる。ヒドロキシルラジカルおよびニトロシルラジカルは生体分子を直接破壊するか連鎖反応を誘発する。分子状水素(H₂)はこれら強力な酸化剤と細胞内で反応し、代謝的レドックス反応や情報伝達に関わる活性種には影響を与えずに組織へ迅速に拡散する。H₂は遺伝子発現調節を介した酸化ストレス軽減、抗炎症作用、抗アポトーシス作用を示す。動物実験および臨床観察の蓄積から、酸化ストレス関連疾患に対する有効な抗酸化物質としての可能性が示唆されている。

メカニズム

H₂はヒドロキシルラジカルおよびニトロシルラジカルと選択的に反応し、遺伝子発現調節・抗炎症・抗アポトーシス作用を介して酸化ストレスを軽減する。

書誌情報

著者
Slezák J, Kura B, Frimmel K, Zálešák M, Ravingerová T, Viczenczová C ほか
ジャーナル
Physiol Res
発行年
2016 (2016-09-19)
PMID
27643933
DOI
10.33549/physiolres.933414

タグ

メカニズム:抗酸化酵素 アポトーシス抑制 ヒドロキシルラジカル消去 炎症抑制 酸化ストレス ペルオキシナイトライト消去 活性酸素種

投与経路に関する解説

複数の投与経路を併用した研究です。一般原則として、日常的な水素摂取は吸入が最も効率的な経路とされます。吸入応用にあたっては爆発リスクに注意が必要です(LFL 実証値 10%、高濃度機は消費者庁事故事例あり非推奨)。

安全性注意

複数の投与経路を併用した研究です。一般原則として、日常的な水素摂取は吸入が最も効率的な経路とされます。吸入応用にあたっては爆発リスクに注意が必要です(LFL 実証値 10%、高濃度機は消費者庁事故事例あり非推奨)。

詳しくは:

引用形式: H2 Papers — PMID 27643933. https://h2-papers.org/papers/27643933
Source: PubMed PMID 27643933