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UVB照射HaCaT細胞における水素のPI3K-Aktシグナル経路を介した酸化ストレス軽減効果

Hydrogen ameliorates oxidative stress via PI3K-Akt signaling pathway in UVB-induced HaCaT cells.

細胞・分子レベル 細胞・分子 有効

要約

UVB照射によって誘発される酸化ストレスは皮膚障害の病態に関与する。本研究では、HaCaT細胞にUVBを照射したモデルを用い、水素がROS・8-iso-PGF2α・マロンジアルデヒドの産生を抑制し、細胞生存率を改善することをMTTおよびLDHアッセイで確認した。さらにウエスタンブロット解析により、水素がPI3K・Akt・Nrf2・HO-1の発現を促進することが示された。PI3K阻害剤の添加により水素の保護効果が部分的に消失したことから、PI3K/Akt経路がNrf2/HO-1活性化を介した水素の細胞保護機構に不可欠であることが示唆された。

メカニズム

水素はPI3K/Aktシグナルを活性化し、下流のNrf2およびHO-1の発現を誘導することでUVB誘発性の活性酸素種産生と脂質過酸化を抑制する。

書誌情報

著者
Zhang BB, Zhao Z, Meng XE, Chen H, Fu G, Xie K
ジャーナル
Int J Mol Med
発行年
2018
PMID
29532858
DOI
10.3892/ijmm.2018.3550

タグ

疾患・症状:皮膚疾患 メカニズム:抗酸化酵素 炎症抑制 脂質過酸化 Nrf2 経路 酸化ストレス 活性酸素種

投与経路に関する解説

細胞・分子レベルの基礎研究です。ヒトでの応用には吸入経路が最も有望な投与方法とされますが、吸入応用にあたっては爆発リスクを伴うため使用濃度に注意が必要です(LFL 実証値 10%、高濃度機は非推奨)。

安全性注意

細胞・分子レベルの基礎研究です。ヒトでの応用には吸入経路が最も有望な投与方法とされますが、吸入応用にあたっては爆発リスクを伴うため使用濃度に注意が必要です(LFL 実証値 10%、高濃度機は非推奨)。

詳しくは:

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引用形式: H2 Papers — PMID 29532858. https://h2-papers.org/papers/29532858
Source: PubMed PMID 29532858